Arkana Snow Fungus Mask
tugevalt niisutav ja rahustav biomask
Naturaalne biomask, mille struktuur koosneb valgest lumeseenest (ld k Tremella fuciformis fungus). Tänu seenes leiduvatele polüsahhariididele, omab see tugevalt rahustavat ja sügavalt niisutavaid omadusi, tekitades kuivale ja ärritunud nahale kaitsva kihi. Lisaks on maskis kõrges kontsentratsioonis hüaluroonhapet, C ja E vitamiini ja naha kiiremaks taastumiseks PAL-GHK peptiidi. Mask on koheselt kasutusvalmis nii kodu kui salongi hooldusteks.
KASUTAMINE: kanna mask puhtale, kuivale nahale. Jälgi, et maski alla ei jääks õhumulle ja mask oleks korralikult vastu nahka. Hoia nahal 20-30 minutit. Eemalda mask ja masseeri jäägid nahka.
INCI:
Water, Tremella Fuciformis Polysaccharide, Mannan, Sodium Ascorbyl Phosphate, Tocopheryl Acetate, Palmitoyl Tripeptide-1, Sodium Hyaluronate, Glycerin, Dextran, Propylene Glycol, Algin, Triethanolamine, Carbomer, Parfum, Methylparaben
Naturaalne biomask, mille struktuur koosneb valgest lumeseenest (ld k Tremella fuciformis fungus). Tänu seenes leiduvatele polüsahhariididele, omab see tugevalt rahustavat ja sügavalt niisutavaid omadusi, tekitades kuivale ja ärritunud nahale kaitsva kihi. Lisaks on maskis kõrges kontsentratsioonis hüaluroonhapet, C ja E vitamiini ja naha kiiremaks taastumiseks PAL-GHK peptiidi. Mask on koheselt kasutusvalmis nii kodu kui salongi hooldusteks.
KASUTAMINE: kanna mask puhtale, kuivale nahale. Jälgi, et maski alla ei jääks õhumulle ja mask oleks korralikult vastu nahka. Hoia nahal 20-30 minutit. Eemalda mask ja masseeri jäägid nahka.
INCI:
Water, Tremella Fuciformis Polysaccharide, Mannan, Sodium Ascorbyl Phosphate, Tocopheryl Acetate, Palmitoyl Tripeptide-1, Sodium Hyaluronate, Glycerin, Dextran, Propylene Glycol, Algin, Triethanolamine, Carbomer, Parfum, Methylparaben